上海映智研磨材料有限公司 由张泽芳博士为核心的CMP（化学机械抛光）研究团队共同创建，公司以自主创新为本，集研发、生产、销售及技术服务为一体，主营业务为半导体及其他产业CMP制程材料的研发和产业化。

  目前公司产品包括：用于集成电路抛光中研磨颗粒(高纯度硅溶胶)、半导体衬底及其他材料CMP制程所必须的抛光液和抛光垫三大种类，应用领域涵盖：

大硅片碳化硅等晶圆的CMP制程

集成电路芯片级CMP制程

LED蓝宝石、砷化镓衬底CMP制程

消费类电子及光学、蓝宝石、玻璃等材料CMP制程

  公司先后在上海设立研发和销售中心，在山西临汾和江苏徐州设立生产基地，有多项发明专利授权，是国内首家纳米级平坦化材料整体解决方案提供商，公司将长期致力于CMP材料的国产化替代及整体解决方案全球创新。